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核心优势

单原子层沉积（ALD）由于其沉积参数的高度可控性（厚度，成分和结构）。优异的沉积均匀性和致密性，使得其镀层的阻水率能达到10-3以上。

真空镀膜有蒸镀、溅射（PVD）、化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）。

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